產品名稱： 
      DYR-E200E光
產品類別： 
      美容儀器 美容設備
產品用途：
      適用于：專業(yè)祛痘；美白祛斑；治療紅血絲；去皺嫩膚；IPL安全無痛絕毛術。 
原理特點：
      E光技術充分結合光能和射頻技術的各自優(yōu)勢，利用皮膚對光能的選擇性吸收預熱及皮膚的阻抗差異，在光能強度較低的情況下引起靶組織對射頻波的吸收，極大的消除了因光能過強可能引起的副作用（水泡、色素沉著、反黑）并極大的提高了顧客的術中治療的舒適程度！由于傳統(tǒng)的IPL設備治療深度只能達到皮下4MM，而DYR-E200 E光美容技術，治療深度可以達到皮下15MM，使得DYR-E200 E光美容技術的運用范圍大副提高！ 

E光的核心技術主要有三點：
1.雙極射頻
2.低能量脈沖光能
3.表皮冷卻基于光能會被表皮色素大量吸收，高能量或者深色皮膚治療時風險較大。另外由于部分光能被反射和折射，如要達到治療目的，就需要提高能量，相對皮膚會易于灼傷。
E光能量主要用于調整組織的阻抗值，引導RF（射頻）能量深入集中，配合表皮冷卻技術，將射頻推向真皮組織，在光能較低的情況下，加強靶組織對RF的吸收，從而避免主要能量的反射和折射問題。
Rf（射頻）能量的吸收并不受黑色素的影響，被證實可用在深色皮膚及淺色的細軟毛發(fā)上，低能量脈沖光作用的疼痛感覺及風險也大大降低。 
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技術參數(shù)： 


項 目  參 數(shù)  
電  壓 220V/10A 50HZ-60HZ 
輸出功率 1000W 
光斑面積 8mmx40 mm 
光譜范圍 430-1200nm 
最大脈寬 1-25ms 
脈沖個數(shù) 1-6個 
脈沖延時 1-100ms 
能量密度 0-50J/CM2 
射頻延時 2500ms 
射頻能量 0-10J/M3 
制  冷 半導體制冷，水循環(huán)強制冷卻 
制冷溫度 0-5℃ 
治 療 頭 醫(yī)用進口藍寶石 
尺  寸 45cm*40*120cm 
重  量 38KG