Heatpulse 4100快速退火爐

原制造商：AG Associates
設備類型：快速退火爐
AG Associates Heatpulse 4100系列快速退火系統具有成本低，適用面廣等優點。是專門為半導體器件生產廠家快速退火工藝設計制造的退火系統，被廣泛應用驗證。該系統采用自動傳片系統(Video)，適用于標準硅片、復合半導體材料和其他材料的晶片，晶片尺寸可從3英寸到6英寸。操作簡便，自動化程度高，已廣泛應用在半導體制造產業。
Heatpulse 4100優越的工藝控制： 單片，閉環溫度控制；
快速升溫與降溫控制；
工藝重復性高；
4組加熱燈可分別控制，提高溫場均勻性。Heatpulse 4100工藝用途： 離子注入后快速退火；
歐姆接觸快速合金；
硅化物合金退火；
氧化物生長；
其它快速熱處理工藝。Heatpulse 4100 同管式高溫爐的比較： 一般管式高溫爐只能設定一個工藝條件，即一個溫度；
工藝周期長，使用不太靈活；
須24小時加電恒溫，能耗較高；
快速退火爐可以設定多個工藝條件，即多種溫度；
快速退火爐工藝時間短，使用非常靈活；
快速退火爐能耗很低；
快速退火爐同一臺設備既可用作生產，也可用作科研，且任何科研工藝條件不會對生產工藝造成影響。Heatpulse 4100 同其他同類快速退火爐的比較： 更廣泛被行業使用，市場保有量第一
更容易取得備件
成本低
更容易取得服務   

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