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[供應]鄞州半導體封裝超純水設備，微電子工業清洗高純水設備
- 產品產地：蘇州
- 產品品牌：偉志
- 包裝規格：全自動
- 產品數量：200
- 計量單位：臺
- 產品單價：190000
- 更新日期：2020-12-23 14:16:21
- 有效期至：2030-12-21
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鄞州半導體封裝超純水設備，微電子工業清洗高純水設備
詳細信息
鄞州半導體封裝超純水設備，微電子工業清洗高純水設備
半導體清洗超純水設備水質標準：
半導體芯片清洗超純水設備出水水質完全符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準）、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。
新興的光電材料生產、加工、清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。
半導體清洗超純水設備制備工藝：
1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象（≥15MΩ.CM）(傳統工藝)
2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥16MΩ.CM）(最新工藝)
3、預處理→一級反滲透→加藥機（PH調節）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥17MΩ.CM）(最新工藝)
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