泊頭市龍諾環保設備有限公司

      主營:UV光氧廢氣處理設備,低溫等離子廢氣處理設備
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      [供應]供應UV光氧廢氣處理設備生產廠家
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      • 更新日期:2019-12-16 14:08:00
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      供應UV光氧廢氣處理設備生產廠家 詳細信息

      光氧基催化除臭設備能有效降解有機化學品:能有效去除揮發性有機化合物(VOC)、無機物、硫化氫、氨、硫醇等主要污染物,以及各種異味。除臭效率可達99.9%以上,大大超過1993年頒布的《惡臭污染物排放標準》(gb14554-93)。不需要添加任何物質:只需要相應的排氣管和排氣管功率使氣體通過設備進行脫臭、分解和凈化,不需要添加任何物質參與化學反應。適應性強:可適應高濃度、大氣量、不同有機化學物質的凈化處理,可連續24小時工作,運行穩定可靠。低運營成本:本設備沒有機械作用,沒有噪音,不需要特殊的管理和日常維護,只需要做定期檢查,設備能耗低(每處理1000立方米/小時,只有0.1度電),設備的風的阻力非常低<30pa,可以節省大量排氣動力能源消耗。均相光催化降解是以Fe2+或Fe3+及H2O2為介質,通過光助-芬頓反應產生羥基自由基使污染物得到降解。紫外光線可以提高氧化反應的效果,是一種有效的催化劑。紫外/臭氧(UV/03)組合是通過加速臭氧分解速率,提高羥基自由基的生成速度,并促使有機物形成大量活化分子,來提高難降解有機污染物的處理效率。非均相光催化降解是利用光照射某些具有能帶結構的半導體光催化劑如TiO2、ZnO、CdS、WO3、SrTiO3、Fe2O3等,可誘發產生羥基自由基。在水溶液中,水分子在半導體光催化劑的作用下,產生氧化能力極強的羥基自由基,可以氧化分解各種有機物。把這項技術應用于POPs的處理,可以取得良好的效果,但是并不是所有的半導體材料都可以用作這項技術的催化劑,比如CdS是一種高活性的半導體光催化劑,但是它容易發生光陽極腐蝕,在實際處理技術中不太實用。而TiO2可使用的波長可達387.5nm,價格便宜,多數條件下不溶解,耐光,無毒性,因此TiO2得到了廣泛的應用。

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